產品中心
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OTF1200X-5-III-F3LV is a CE certified split 5" (O.D) three-zone tube furnace, which can achieve faster heating up to 1200oC and create a different thermal gradient by adjust three zone temperature. Th 帶滑動法蘭三溫區CVD系統OTF-1200X-5-III-F3LV可以快速加熱至1200℃，并通過調整三個溫區而建立不同梯度的熱場，可進行退火、擴散、在不同氣氛中燒結樣品及CVD等實驗。
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EQ-TM106膜厚監測儀是采用石英晶體振蕩原理，結合先進的頻率測量技術，進行膜厚的在線監測。主要應用于MBE、OLED熱蒸發、磁控濺射等設備的薄膜制備過程中，對膜層厚度及鍍膜速率進行實時監測。根據實時速率可以輸出PWM模擬量，作為膜厚傳感器使用，與調節儀和蒸發電源配合實現蒸發源的閉環速率控制。
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TFMS-LD是一款反射光譜薄膜測厚儀，可快速精-確地測量透明或半透明薄膜的厚度，其測量膜厚范圍為15nm-50um，儀器所發出測試光的波長范圍為400nm-1100nm。此款測試系統理論基礎為鏡面反射率，并且采用光纖反射探頭。儀器尺寸小巧，方便于在實驗室中擺放和使用。
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TM106-LD薄膜測厚儀/層積速率顯示儀的工作原理，是依據所測樣品薄膜厚度的改變而導致石英晶片振蕩頻率改變。將所蒸發材料的密度輸入到測試系統中，便可測量層積薄膜的厚度。此款測厚儀的分辨率為0.037 ?。
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GSL-1700X-SPC-2是一款小型臺式程序控溫蒸發鍍膜儀，可以設定程序，精-確控制溫度200oC~1500oC（或者1200oC~1700oC），樣品臺可旋轉以獲得更均勻的薄膜，可制備各種金屬薄膜和有機物薄膜。
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GSL-1700X-HVC是一款CE認證的二通道高真空CVD系統，它是由二路質子混氣系統和高真空機組組成，其*高工作溫度可達1600℃，極限真空度可達 to 10^-5 torr?；鞖庀到y可以對兩種氣體進行精-確的混氣，然后導入到管式爐內部。安裝尺寸：管爐：550 x 380 x 520mm 高真空：550 x 380 x 520mm
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OTF-1200X-4-RTP-SL是一款能夠快速升溫和降溫的管式爐，其通過紅外燈管加熱達到快速升溫的效果（*大升溫速率> 50°C/S），通過爐體滑動來達到快速冷卻效果（*大降溫速率>10°C/S）。
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1100℃雙管三溫區管式爐是一款CE認證的三溫區雙管管式爐，其外管直徑11英寸，內管直徑8.5英寸，在加熱管一端安裝有一對高真空不銹鋼法蘭，法蘭上安裝有機械壓力表和閥門，三個溫區都是采用30段可編程PID數字溫度控制器進行溫度控制，采用K型熱電偶進行測溫，控溫精度+/- 1 oC ，專門針對于用在金屬箔上生長薄膜物質，如石墨烯、使用時把金屬箔附在內管上。
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MSK-USP-6000是一款實驗型霧化干燥器，通過蒸發霧化液滴以及旋風分離工藝進行微粉的制備收集。該設備對溫敏型材料具有廣譜適用性，廣泛應用于生物醫藥、納米技術、催化劑、燃料電池以及其他電池領域。
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OTF-1200X-50-II-4CV-PE-MSL是一款雙溫區的PE-CVD管式爐系統，組成部分為500W的射頻發生器、滑動速度可控的雙溫區滑軌爐，預熱爐（作用為使固體原料蒸發）和德國進口的無油泵。此款PE-CVD對于生長納米線或用CVD，方法來制作各種薄膜是一款新的探索工具。
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GSL-1700X-F3LV是一款CE認證的管式爐CVD系統，其真空泵采用雙旋片式，混氣系統采用三路浮子供氣系統，*高溫度可以達到1700°C，真空度可達到5x10-2 torr ，可以混合1-3種氣體。
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三溫區三通道混氣CVD系統是一款通過CE認證的三溫區管式爐CVD系統，其爐管直徑為60mm,其真空泵采用雙旋機械泵，混氣系統為3路浮子混氣系統。此高溫爐燒結溫度可達1700℃，真空度可達到5x10-2 torr ，可以混合1-3種氣體。