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OTF-1200X-50S-PE是一款小型的PE-CVD（等離子體氣相沉積）管式爐系統。此套設備帶有500W的等離子射頻電源，一個爐管直徑為50mm的開啟式管式爐（帶有真空法蘭和連接管道）和一個直聯式雙旋機械泵。因此這套設備模型可以更新為不同的PECVD系統。對于有限的經費的情況下來進行材料探索，此套系統極為理想。
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雙爐體滑動PECVD系統是一款雙爐體滑動的PECVD系統，并且連接有循環手套箱。此款設備中石英爐管與一循環手套箱相連接，允許客戶用CVD方法把樣品制作好以后，直接把樣品移入到氣氛保護環境下的手套箱中。爐體采用滑動式，可在室驗中對樣品進行快速加熱和快速冷卻。此款儀器特別適合新一代納米材料和二維晶體材料的探索研究。
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1000℃小型開啟式管式爐是一款小型開啟式管式爐，其*高工作溫度可達到1000℃，爐管可以選用直徑為100mm或130mm的石英管，并且可配一套不銹鋼密封法蘭（上面安裝有不銹鋼截止閥和通氣接口），可在真空或氣氛保護環境下對樣品進行熱處理?？刂葡到y與爐體分開，可設置30段升降溫程序，控溫精度為+/- 1℃。
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OTF-1500X-VHP4是一款真空熱壓機，可對材料在真空（或氣氛保護）及高溫的環境下進行加壓，如把粉末壓成塊狀，或將多層晶片壓合在一起（擴散實驗）。此款儀器*高溫度可達到1500℃，在此溫度下可對樣品施加的壓力為5T。儀器爐體設計為開啟式，爐管采用美國進口的莫來石管，模具為石墨模具，加壓裝置為一20T的電動壓機。爐子*高溫度可以達到1500℃，可設置30段升降溫程序。
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KSL-1200X-BF6一款小型網帶爐，其網帶寬度為6“（150mm)。所要熱處理的樣品放在網帶上，網帶傳送樣品連續通過7個加熱溫區。此款設備是一款中式生產設備適合于薄膜、電子元件退火，光伏電池制作以及陶瓷材料或金屬材料退火。